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CMP抛光液
CMP抛光液

CMP抛光液


超高纯抛光液产品,涵盖氧化膜(Oxide)、金属钨(Tungsten)及多晶硅(Poly)等关键制程,拥有自主研发、全国产化超高纯纳米氧化硅磨料的核心技术,为客户提供定制化解决方案。

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CMP抛光垫
CMP抛光垫

CMP抛光垫


全系列抛光垫产品适配200 mm与300 mm晶圆及第三代半导体材料的CMP抛光工艺,具备高材料去除速率与低表面缺陷密度等关键性能。

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CVD钻石碟
CVD钻石碟

CVD钻石碟


CVD钻石碟(CVD Disc) 是化学机械抛光工艺中的关键修整耗材,其主要功能是通过其表面的化学气相沉积(CVD)金刚石涂层,对抛光垫进行可控的机械修整

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CMP精密抛光头
CMP精密抛光头

CMP精密抛光头


适配各种国产及进口抛光设备精密抛光头的全系零部件、耗材、以及配套的组装、检测、翻新等服务。在上海、合肥、武汉、青岛、宁波、北京、深圳、成都、新加坡等地设立组头洁净车间服务点,为客户提供就近服务。

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CMP保持环
CMP保持环

CMP保持环


适配各种国产及进口抛光设备精密抛光头的保持环,涵盖PPS/PEEK等多种材质,支持不锈钢粘接、包钢设计等多种结构,可按客户需求定制沟槽形貌,优化抛光性能。

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CMP吸附膜
CMP吸附膜

CMP吸附膜


适配各种国产及进口抛光设备精密抛光头的吸附膜,可根据客户需求定制适用于不同物性与尺寸的最优产品解决方案。

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CMP清洗刷
CMP清洗刷

CMP清洗刷


200mm/300mm晶圆及大硅片制造清洗用PVA清洗刷,实现从原料到成品的100%国产化。

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