关于润平
上海润平电子材料股份有限公司（简称“润平电子”）成立于2021年12月，专注于半导体制造用CMP（化学机械抛光）材料的研发、规模化制造与销售。公司深耕CMP材料领域，为半导体客户提供抛光液（Slurry），抛光垫（Polishing Pad）、钻石碟（CVD Disc）以及超高精密抛光头用吸附膜（Membrane）、保持环（Retainer Ring）、清洁刷（PVA Brush）等关键零部件，并提供抛光头组装与维保技术服务。
润平电子持续提升创新能力，拥有核心自主知识产权，已获授权专利41项，可为14nm及以下高端芯片制造提供CMP材料整体解决方案。产品已批量应用于多家国内外头部半导体企业。
旗下公司 - 宁波润平建有浙江省博士后工作站，获评国家高新技术企业、国家科技型中小企业、浙江省科技型中小企业、宁波市“专精特新”中小企业、宁波创新型中小企业及宁波市企业工程技术中心。CMP抛光材料系列产品荣获2024年度“浙江省优秀工业产品”称号。
面向未来，公司将持续加大研发投入与人才梯队建设，不断深化CMP材料技术布局，以更具竞争力的半导体材料整体解决方案，服务国内外先进芯片制造需求，助力半导体产业链实现自主可控与安全稳定。
企业文化
使命：
匠心智造，驱动半导体未来
愿景：
成为世界一流的半导体材料企业
价值观：
客户至上 品质为本 创新驱动 知行合一 诚信正直
经营理念：
实现投资者、客户、员工和合作伙伴的协同共赢；
同创业 共成功
荣誉证书
专利展示
发展历程
成立宁波平恒，启动抛光液研发与生产
金刚石修正盘（Disc）项目启动
新加坡润平成立，海外业务启动
浙江省博士后工作站设立
联系方式
上海润平：86-021-6191 9180
宁波润平：86-574-6295 0866
上海润平：中国(上海)自由贸易试验区临港新片区云淡路33号1号厂房
宁波润平：浙江省余姚市凤山街道兵马司路1608号403室
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